日本IMT實驗用半自動樣品拋光機IM-P2+SP-L1介紹

發(fā)布日期：2021-10-25      瀏覽次數(shù)：1413

日本IMT實驗用半自動樣品拋光機IM-P2+SP-L1介紹



用于安裝拋光機 IM-P2 的樣品旋轉(zhuǎn)機。
拋光嵌入樣品時，將 SP-L1 連接到拋光機 IM-P2 以啟用自動拋光。
由于可以改變磁頭旋轉(zhuǎn)速度，因此可以以相同的旋轉(zhuǎn)速度拋光支架和光盤，防止拋光表面傾斜或變成鉛筆狀，并且可以在不失去平行度的情況下進行研磨。

主要特點

• 采用個別加載方式！通過在觀察線（通孔等）切割電子材料等時采用單獨裝載方式，可以依次取出到達目標(biāo)位置的樣品。
  多可以設(shè)置 3 個樣本。

• 可以在不失去并行性的情況下削減工作！樣品的拋光表面可以是傾斜的或鉛筆形的，帶有單獨的負(fù)載支撐。
  由于SP-L1可以改變刀柄的轉(zhuǎn)速，根據(jù)拋光推薦理論，通過以相同的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)刀柄和磨盤，可以在不損失工件平行度的情況下進行研磨。 .

• 粗拋光砂紙或拋光墊

• 圓盤轉(zhuǎn)速200rpm/Holder200rpm

• 精磨鉆石+琢磨紙

• 碟片轉(zhuǎn)速 65-150rpm/Holder65-165rpm

• 可以半自動拋光！包括循環(huán)酒標(biāo)！通過在 IM-P2 上安裝 SP-L1，半自動拋光成為可能。
  標(biāo)配帶滴量調(diào)整功能和開閉閥的潤滑油滴頭裝置“Lubricator"。

SP-L1 主機規(guī)格

旋轉(zhuǎn)速度	0-200rpm可變型（常用50/60Hz）
樣本數(shù)	1到3自由選擇
加壓	一個樣品10-40N（彈簧式單獨負(fù)載）
樣品架	Φ25mm, 30mm, 40mm x 3 * 定制尺寸支架和特殊夾具需要咨詢 * 支架單獨出售
潤滑器	標(biāo)準(zhǔn)附件（流量模擬調(diào)整型）
電源	單相 100V 或單相 200-220V *插入IM-P2 插座 75W 電機
尺寸	W460 x D655（至排水管）x H550（頭部抬起時為685）mm, 50 kg * SP-L1安裝在IM-P2上 時的數(shù)值

IM-P2 主機規(guī)格

磁盤大小	拋光盤：Φ223mm 或 Φ200mm AL 琢磨盤：Φ200mm 磁面盤：Φ200mm * Φ250mm 盤也可設(shè)置 * 盤另售
旋轉(zhuǎn)速度	50-400rpm可變型（常用50/60Hz）
給排水功能	供水旋塞開關(guān)（帶供水/排水軟管）
電源	單相100V或單相200-220V（50/60Hz） 200W減速電機
尺寸/重量	W390 x D655 (至排水管) x H195mm, 31kg